真空甩帶爐的組成介紹 　　真空甩帶爐是用石墨作發(fā)熱元件的立式真空爐，供金屬化合物、陶瓷、無機化合物、納米材料等在真空或保護氣氛中燒結制品。 　　1、真空甩帶爐爐體為立式爐殼，其內層為1Cr18Ni9做成的圓筒，外殼為碳鋼經防銹處理。兩層之間形成夾套可以通水冷卻，將傳到爐殼內壁上的熱量帶走。內外筒與上下法蘭焊成一個整體，中間開有抽氣孔、紅外測溫孔、熱電偶孔及觀察孔等，熱電偶具有自動退出功能。 　　2、爐體上部是爐蓋，它是有內外封頭和法蘭焊成，中間可通水冷卻爐蓋，裝有鎖緊裝置，松開鎖緊，爐蓋自動向后打開，手動推到較大后即可裝卸工件，爐蓋上觀察窗，可直接觀察到物料燒結的變化。 　　3、真空甩帶爐爐底部分也是有內外封頭和法蘭組成，中間通水冷卻，固定在爐體下部，有電極引入，電極通水冷卻。 　　4、爐內隔熱屏由碳氈、石墨筒及1Cr18Ni9板組成，***內層為石墨，底部隔熱屏由石墨組成。 　　5、真空甩帶爐真空閥門為氣動擋板閥及氣動蝶閥，可通過PLC控制實現高、低真空自動切換。真空測量粗真空由園形彈簧真空計測量，低真空由熱偶真空計，高真空由電離真空計測量。有關真空計的使用請參照真空計使用說明書，注意使用一段時間后，熱偶規(guī)管會老化，其工作電流需重新標定，標定方法主要為高真空校低真空法。

　　真空速凝爐的抽真空度要達到多少　　真空速凝爐的抽真空度應根據具體工藝和材料要求而定。以下是一些常見的真空度要求范圍：　　1.高真空區(qū)域（High Vacuum）：通常要求在10^-3至10^-6帕（Pa）的范圍內。這種真空度適用于許多金屬合金的高溫處理、晶體生長以及其他對氣體污染敏感的工藝?！　?.超高真空區(qū)域（Ultra-High Vacuum,UHV）：通常要求在10^-6至10^-9帕的范圍內。這種真空度適用于半導體器件制造、薄膜沉積、電子束物理沉積（EB-PVD）等高精度和高純度的工藝?！　⌒枰⒁獾氖?，實際的真空度目標可能會受到設備本身的性能和限制、工藝需求以及操作條件的影響。因此，在選擇和操作真空速凝爐時，應根據具體情況并參考相關的工藝要求，確定適當的抽真空度范圍。同時，還需注意確保真空系統(tǒng)的密封性和維護，以保持所需的真空度水平。