真空熔煉爐的原理：真空熔煉是在常壓下進(jìn)行的物理化學(xué)反應(yīng)條件有了改變，這主要體現(xiàn)在氣相壓力的降低上。只要冶金反應(yīng)中有氣相參加，而且反應(yīng)生成物中的氣體摩爾數(shù)大于反應(yīng)物中的氣體摩爾數(shù)的數(shù)值時(shí)，若減小系統(tǒng)的壓力，則可以使平衡反應(yīng)向著增加氣態(tài)物質(zhì)的方向移動(dòng)，這就是真空熔煉爐中物理化學(xué)反應(yīng)的根本的特點(diǎn)。 　　控制 　　大氣熔煉和澆注的主要缺點(diǎn)之一是合金成分(主要是一些比較活潑的元素)由于燒損不易準(zhǔn)確控制，而真空熔煉不受周?chē)鷼夥瘴廴?，金屬液與大氣中的氧和氮脫離接觸，所以真空熔煉爐能?chē)?yán)格控制合金中活潑元素，如鋁、鈦等的含量，將合金成分控制在很窄的范圍內(nèi)，因而能保證合金的性能、質(zhì)量及其穩(wěn)定性。 　　碳脫氧反應(yīng) 　　大氣熔煉碳氧反應(yīng)對(duì)金屬液起著除氣作用和機(jī)械攪拌作用，但由于碳的脫氧能力不強(qiáng)，不能單獨(dú)用作脫氧劑，往往要用硅、鋁等金屬脫氧劑進(jìn)行沉淀脫氧。在真空熔煉爐中，由于氣相壓力低，且碳氧反應(yīng)生成的CO氣泡能夠不斷的被抽走，而使平衡向生成CO的方向移動(dòng)，即[C]+[O]={CO}反應(yīng)不斷向右方進(jìn)行，從而提高了碳的脫氧能力。 　　大量實(shí)踐數(shù)據(jù)表明：真空熔煉爐與大氣熔煉相比較，碳的脫氧能力約提高100倍。真空熔煉鎳基合金時(shí)，將合金的氧含量降低到20×10以下是不難做到的。真空下用碳脫氧，不僅具有高的脫氧能力，而且其脫氧產(chǎn)物是氣體，易于排除，而不沾污金屬熔池，這比用硅、鋁等生成固態(tài)脫氧產(chǎn)物的脫氧劑要優(yōu)越得多，因此在真空熔煉中，碳是理想的脫氧劑。

　　氣相沉積爐的特點(diǎn)是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳?xì)錃怏w為碳源的復(fù)合材料的化學(xué)氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應(yīng)，例如，金屬鹵化物、有機(jī)金屬、碳?xì)浠衔锏鹊臒岱纸?，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)以析出金屬、氧化物、碳化物等無(wú)機(jī)材料的方法。這種技術(shù)開(kāi)始是作為涂層的手段而開(kāi)發(fā)的，但目前，不只應(yīng)用于耐熱物質(zhì)的涂層，而且應(yīng)用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導(dǎo)體薄膜等，是一個(gè)頗具特征的技術(shù)領(lǐng)域。 　　設(shè)備特點(diǎn)在于：(1)在低溫下合成高熔點(diǎn)物質(zhì);(2)析出物質(zhì)的形態(tài)在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進(jìn)行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點(diǎn)物質(zhì)，在節(jié)能方面做出了貢獻(xiàn)，作為一種新技術(shù)是大有前途的。 　　下面小編詳細(xì)列舉幾條爐子的特點(diǎn)，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區(qū)尺寸可達(dá)2.5m×2m×4.5m，能滿足超大型工件化學(xué)氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區(qū)獨(dú)立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時(shí)采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密封效果好，抗污染能力強(qiáng)； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場(chǎng)均勻，無(wú)沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對(duì)炭沉積過(guò)程中產(chǎn)生的焦油、固體粉塵、有機(jī)氣體等能進(jìn)行有效處理。